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半导体清洗工作是半导体制造过程中的重要环节，它主要可以分为湿法清洗和干法清洗两种技术路线。 湿法清洗是目前主流的技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90％以上。 它采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆表面进行无损伤清洗。 主要包括RCA清洗法、超声清洗...全文
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半导体中的清洗工作是至关重要的，它对于确保半导体的质量和可靠性起着重要的作用。清洗的目的是去除半导体表面上的杂质和污染物，以防止这些杂质和污染物对半导体器件的性能产生负面影响。 清洗工作通常涉及使用化学试剂和/或物理方法来去除表面上的杂质和污染物。这...全文
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清洗一般包括干洗和湿洗 湿法清洗要用特定的化学药液和去离子水，这个化学药液的味道很大，需要佩戴手套和口罩 干洗，包括气相清洗等离子体清洗，这个成本太高，目前用的很少
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